平面全息光柵

全息光柵通常用于對雜散光的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是完全一致的，所以產生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。

刻線	600~4500Lines/mm
閃耀波長	150-1000nm
尺寸公差	±0.5mm
材料	K9
鍍膜	鋁
類型	反射衍射光柵

編號	刻線密度	光譜范圍	閃耀或峰值波長	刻劃面積
	（l/mm）	（nm)	（nm）	（H×W mm2）
GH-111	1200	190-800	220	64×64
GH-112	1800	190-1000	250	64×64
GH-113	2400	190-800	250	70×100
GH-114	3600	170-500	190	70×100
GH-115	4321	160-450	170	58×58

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